什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表麵上的過程。

它的（de）作（zuò）用是可以使某些有特殊性能（強（qiáng）度（dù）高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴（pēn）塗在性能較低的（de）母體上，使得母體具有更好的性（xìng）能。

PVD基本方（fāng）法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子（zǐ）鍍（空心陰極離子鍍、熱（rè）陰極離子鍍、電（diàn）弧離子鍍（dù）、活性反（fǎn）應離（lí）子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技術是目前國際上科技含量高且被廣泛應用的離子鍍膜技（jì）術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理（lǐ）溫（wēn）度低、可鍍材料廣泛等特（tè）點.

PVD 本身鍍膜過程是（shì）高溫狀（zhuàng）態（tài）下，等離子場下的輝光反應，亦是一個高淨（jìng）化處理過（guò）程；鍍層的主要原材料是（shì）以鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的，使得PVD 產品本身具備純淨的環保性（xìng）能。