濺射靶材具有高純（chún）度、高密度、多組元、晶粒（lì）均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的（de）核心部分，是高速離子（zǐ）束流轟擊的目標材料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製（zhì）成電子（zǐ）薄膜。

由於高純度金屬強度（dù）較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的（de）機台環境內（nèi）完成濺射過（guò）程。

超高純金屬的濺射靶坯需要與背（bèi）板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到（dào）主要起到固定濺射靶材的作用，且需要（yào）具備良好的導電、導熱性能。