真空（kōng）鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發，理化儀器、建築機（jī）械、包裝、民用（yòng）製（zhì）品、表（biǎo）麵（miàn）科學以及（jí）科學（xué）研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束（shù）流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法（fǎ）。如果（guǒ）從真空鍍膜的目（mù）的是為了改變物質表麵的（de）物理、化學性能的話，這一技術又是真（zhēn）空表麵處理技術中的重要組成部分，其分類如表 6 所示（shì）。現就其幾個主要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學（xué）玻璃或石英表麵上鍍一層或幾層不同物質的薄膜後，即可成為高反射或無反射（即增透膜）或者作（zuò）任何預期比例的（de）反射或透（tòu）射材（cái）料，也可以作成（chéng）對某種波長的（de）吸收，而（ér）對另一種波長的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望（wàng）遠鏡和各種激（jī）光器開（kāi）始、一直到新（xīn）型（xíng）建築物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。增透（tòu）膜則大量用於照相（xiàng）和各（gè）種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要（yào）。增（zēng）透膜則大量用於照相機和（hé）電視攝象（xiàng）機的鏡頭上。

        在電子學方麵真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等（děng）都要采（cǎi）用導（dǎo）電膜、絕緣膜和保護膜。作（zuò）為（wéi）製備電路（lù）的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激（jī）光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各種薄膜。

        在顯（xiǎn）示器（qì）件方麵，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的透（tòu）明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也（yě）都是采用真空鍍膜法製備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以製造電阻，在塑料上蒸發（fā）鋁、一氧化矽、二（èr）氧化鈦（tài）等可以製造（zào）電容器，蒸發硒可以得到靜電複印機用的硒鼓、蒸發鈦（tài）酸鋇可以製造磁致伸縮的起聲（shēng）元件（jiàn）等等。真空蒸發還可以用於製造（zào）超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鍾表外殼表（biǎo）麵、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用（yòng）濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等製造超硬（yìng）膜。近兩（liǎng）年內所興起的多弧離子鍍製備鈦金製（zhì）品，如不鏽鋼薄板、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄杆等目（mù）前正在盛行（háng）。