微信掃一掃 關注草莓视频CAOMEI888最新動態！真空卷繞鍍膜(卷對卷)是在（zài）真空下應用不（bú）同（tóng）方法（fǎ）在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲（huò）得、機電（diàn）控製、高精傳動和表（biǎo）麵分析等多方麵內容（róng）。其重點是，在保證鍍膜質量前提下（xià）提高卷繞速（sù）率、控製鍍膜穩定性及實施在線監控。卷對卷技術成本低、易操作、與柔性基底相容、生產（chǎn）率高及可連續（xù）鍍多（duō）層膜等優（yōu）點（diǎn）。第一台真空（kōng）蒸發卷繞鍍膜機1935年（nián）製成，現可鍍幅寬由500 至2500mm。卷對卷技術（shù）應用由（yóu）包裝和裝飾用膜，近年（nián）逐漸擴大至激光防偽膜、導電等功能薄膜（mó）方麵，是未來柔性電子等行業（yè）的主流技術之一。
目前，國際前沿是研究不同製備工藝下功能薄膜（mó）特性（xìng）並完善複合（hé）膜層製備。卷（juàn）繞鍍（dù）膜機有向大型工（gōng）業化和小型科研化方向發展的兩種趨勢（shì），國內（nèi）蘭州真空設（shè）備、廣東中環真空設備等公司多生產大型工業（yè）卷繞設備， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司等，主要為科研機構（gòu）提供小型（xíng）或微型卷繞鍍膜（mó）機。
真空卷繞鍍膜設備（bèi）分類（lèi）
真空卷對卷設備由（yóu）抽真空、卷繞、鍍膜和電氣控製等係統組成。據真空室有無（wú）擋板，可分單室、雙室和多室（shì）結構。單室的收（shōu）放卷輥和鍍膜輥（gǔn）在同一室中，結構簡單但開卷（juàn）時放氣會汙染真空環境。雙（shuāng）室（shì）結構（gòu）將係統用擋板隔（gé）成卷繞和鍍（dù）膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類似（sì）開卷放氣問題。多室常用於製備複合薄膜，在雙室基（jī）礎上將相鄰鍍膜區用（yòng）擋板隔開避免幹擾。如Krebs 等將（jiāng）Skultuna Flexibles AB 的開普（pǔ）頓擋板固定（dìng）於兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm 的銅層。
分隔擋板與真空室壁狹縫越小越好。據鍍膜時輥筒（tǒng）作用分為（wéi）單主輥和多（duō）主輥卷（juàn）繞鍍膜機。據（jù）電機個數，則可（kě）分為兩（liǎng）電（diàn）機（jī）、三電機（jī）和四電機驅動係（xì）統。
總結與（yǔ）展望
真空卷繞鍍膜因其大麵積（jī）、低成本、連續（xù）性等特點，比間歇式鍍膜有很大優勢（shì），廣受國內外研究者和企業關注。當前卷繞鍍（dù）膜（mó）技術進展較（jiào）快，解決了鏤空線、白條、褶皺等問題，開始用於製備石墨烯、有（yǒu）機太陽能電池和透明導電薄膜等新型功能介質與器件。故對製膜（mó）過程和成膜質量提出了更高要求，真空機組主泵選擇從大（dà）抽速擴散泵發展到無（wú）油超高真空分子泵和低（dī）溫泵，開發出（chū）了大包角雙冷卻（què）輥鍍膜機以減小薄膜拉伸變形。張力控製多用考慮夾感應張力的收卷模型和單跨（kuà）非線性動力（lì）學的放卷模型。
目前卷繞鍍（dù）膜的（de）精密控製有待提高，例如轉印石墨烯時，難以徹底去（qù）除基（jī）底和石墨（mò）烯間（jiān）的熱解膠，且卷繞速度（dù）過快或基（jī）底較硬（yìng）引發的切應力會使石墨烯層形成裂縫或孔洞。又（yòu）如，真空卷（juàn）繞發（fā）製備的有（yǒu）機薄膜（mó）表麵缺陷多，載（zǎi）流子（zǐ）遷移（yí）率（lǜ）較低，進而嚴重影響其器件的光電特性。未來（lái）應增設薄膜應力等測控單元，融合CVD、離子（zǐ）鍍、高壓靜電紡絲、真空噴射和（hé）原位聚合等成膜技術，為開發新型有機及其無機複合功能薄膜和器件提供保障。