磁控（kòng）濺射真空鍍膜機（jī）需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片（piàn）與靶材（cái）同在真空腔中。蒸發鍍膜（mó）一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子（zǐ）形式被蒸發出來。並且沉降在基片表麵，通（tōng）過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀（zhuàng）生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可（kě）以簡單理（lǐ）解為利用電（diàn）子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且最終沉積在基片表（biǎo）麵，經（jīng）曆（lì）成膜過程，最終形成薄膜。

使用步驟：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開總電源（yuán）。
3、開維持泵、真（zhēn）空計電（diàn）源，真空（kōng）計檔位置V1位置，等待（dài）其值小（xiǎo）於10後，再進入下一（yī）步操作。約需5分鍾。
4、開機械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、並啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小於2為（wéi）止，約需20分鍾。
5、觀察渦（wō）輪（lún）分子泵讀數（shù）到達250以後，關（guān）預抽，開前級泵和（hé）高真空閥繼續抽真空，抽（chōu）真空到達（dá）一定程度後才能開右邊（biān）的高真空表頭（tóu），觀察真空度。真空到（dào）達2×10-3以後才能打開電子（zǐ）槍電源。

DEF-6B操作（zuò）：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製（zhì）Ⅰ和電子槍（qiāng）控製（zhì）Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電源、延時開（kāi）關，延（yán）時、電源及保護燈（dēng）亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未（wèi）關好或水流（liú）繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

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