用來（lái）進行介質膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴散隔離層，該SiO2膜就是采用射頻濺射。
通常在濺射過程（chéng）中輝光放電中的離子撞擊到陰極時，會（huì）與陰極的電子中和，是的（de）濺射現象可以（yǐ）繼續進行。
但若靶材本身不導電的話，離子撞擊到靶材上沒有電子中和，
正電荷一直累積（jī），使與（yǔ）後來的離子排斥，這會造成取代直流電源，使可解決此離子撞擊現象的停頓。
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