對於真空鍍膜機設備的分類，到底了（le）解多（duō）少？
真空鍍膜機主要指（zhǐ）一（yī）類需要在較高真空（kōng）度下進行的鍍膜設備，包括真空離子蒸發鍍（dù）膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機（jī）和（hé）PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種（zhǒng）。

主要是分成蒸發和濺射兩（liǎng）種。
在真空鍍（dù）膜設備中需要鍍膜的被（bèi）成為基片，鍍的材料被（bèi）成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍（dù）膜一般是加熱靶材使（shǐ）表麵組（zǔ）分以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉（chén）降在基片表麵，通過（guò）成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜（mó）機對於濺射類（lèi）鍍膜，可（kě）以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子（zǐ）團或離子形式被濺射出來，
並且最終沉積（jī）在基片表麵，經曆（lì）成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製成的雙層水冷（lěng）結構。

根據工藝要求選擇不同規格及類型（xíng）鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空（kōng）鍍膜（mó）設備、電子束（shù）蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真空鍍膜設（shè）備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真（zhēn）空鍍膜設備（bèi）、空心陰極離子（zǐ）鍍和多（duō）弧離子（zǐ）鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根（gēn）據片（piàn）尺寸及形狀（zhuàng）提出相應要求，轉動（dòng）的速度（dù）範圍（wéi）及轉動精度：普通可（kě）調及變頻（pín）調速等。