氣體的分布狀（zhuàng）況對於（yú）平板基片鍍膜來說是極其重要的，通過機械結構設計，使（shǐ）氣體密度的變化率在濺射（shè）沉積區域內的盡量小。

而在區（qū）域外，使係統的流（liú）導盡量的大，以提高氣體的利（lì）用率和抽氣係統的效率。

控製（zhì）氣體分布（bù）的機械部件或結構包括布氣係（xì）統、真空室的（de）結構、抽氣係統等三個部分。