一. 鍍（dù）層附著性能好 

普通真空鍍膜時，蒸發料粒子大約隻以一（yī）個電子伏特的（de）能量向工件表麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層（céng）之（zhī）間，形成的界麵擴散深度通常僅為（wéi）幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發絲的百分之一（yī）還要小（xiǎo）。兩者間可以說幾乎（hū）沒有連接的過渡層（céng），好似截然分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具（jù）有三千到五千電子伏特的動能。如果說普（pǔ）通（tōng）真空鍍膜的粒子相當於一個氣喘籲（yù）籲的長跑運動員，那麽離子鍍（dù）的粒子則好似乘坐了高（gāo）速火箭（jiàn）的乘客，當（dāng）其高速轟擊工件時（shí），不但沉積速度快，而且能夠穿透（tòu）工件表麵，形成一種注入基體很深的擴（kuò）散層，離子鍍的界麵擴散深度可達四（sì）至五微米，也就是說（shuō）比普通真空鍍膜的擴散深度（dù）要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對離子鍍後的試件作拉伸試驗表明，一直（zhí）拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生（shēng）。

二.繞鍍能力強（qiáng）

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電（diàn）場中沿著（zhe）電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位（wèi），均能（néng）獲得（dé）良好鍍層，這比普通真空鍍膜隻能在直（zhí）射方向上獲（huò）得鍍層優越得多。因此（cǐ），這種方法非常適（shì）合於鍍複零件上的內孔、凹槽和窄縫。用普通真空鍍膜隻能鍍（dù）直射表麵，蒸發料粒（lì）子尤如（rú）攀登雲梯一（yī）樣，隻順梯而上；離子鍍則能均（jun1）勻地繞鍍到零件的背麵和內孔中，帶電離子則好比坐上了（le）直升（shēng）飛機，能（néng）夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑範圍內的任何地方。

三. 鍍層質量好

離子（zǐ）鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至（zhì）棱麵和凹槽都可（kě）均勻鍍複，不致（zhì）形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍複（fù），由於這種工藝方法還能（néng）修補工件表麵的微小裂紋和（hé）麻點等缺陷，故可有效地改善被鍍零件的表麵質量（liàng）和物理機械（xiè）性能。疲勞試驗（yàn）表明，如（rú）果處（chù）理得當，工件疲勞壽（shòu）命可比鍍前（qián）高百分之二、三十.