無論監控儀精度怎樣，它也隻能控（kòng）製真空（kōng）室裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架（jià）的中間位置（zhì）。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是絕對均勻的，那麽遠離（lí）中心位置的基片就無法得到均（jun1）勻的（de）厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但（dàn）有些膜厚度的變化是（shì）由蒸發源的不穩定或膜材的（de）不同表現而（ér）引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對（duì）真空室的（de）結構和蒸（zhēng）發源的恰當選（xuǎn）擇可以使（shǐ）這些影響最小化。
　　在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜係統製造廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜係統（tǒng），同時（shí），用戶對（duì）性能的要求不僅沒（méi）有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統的平均（jun1）尺寸（cùn）規格已經在降低，而（ér）應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術（shù）問題。因此，選用現代化光學鍍膜係統的關鍵取決（jué）於對以下因素的（de）認真考（kǎo）慮：對鍍膜（mó）產品的預期性能，基片的（de）尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必（bì）需的所有技術因素。

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