化學氣相（xiàng）沉積是一種製備（bèi）材料的氣相生長方法，它是把一種或幾種（zhǒng）含有構成薄（báo）膜元素的化合物、單（dān）質氣（qì）體通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應在基體（tǐ）表麵上沉積固態薄膜的工藝技術（shù）。化學（xué）氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱（chēng）CVD)是反應物質（zhì）在氣態條件下發生化學（xué）反應，生成固（gù）態物質沉積在（zài）加熱的固態基體表麵，進而（ér）製得固體材料的工藝技術。它本（běn）質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積（PVD）。