離（lí）子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟（hōng）擊作（zuò）用（yòng）的同（tóng）時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等（děng）離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來（lái），不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應（yīng）用範圍。其（qí）優點是薄膜附著（zhe）力強（qiáng），繞射性好，膜材廣泛等。多弧（hú）離子鍍與一般的離（lí）子鍍有著很大的區（qū）別。多弧離子鍍采用的（de）是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子（zǐ）鍍的原理就是把陰極靶作為（wéi）蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧（hú）光放電（diàn），使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

可以鍍製不（bú）鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜（mó），也可（kě）鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等（děng）,臥（wò）式多弧離子鍍膜機主要針（zhēn）對大麵積五金工件鍍裝飾膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼（gāng）門等工件表（biǎo）麵鍍膜。

1)、此（cǐ）類設備真空室最大尺（chǐ）寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板材、管材上鍍製各類裝飾膜層及（jí）功能膜膜層的適合設備（bèi）。