如何掌控真空鍍膜的均勻性
我們先來認（rèn）識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試（shì）鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調（diào）試（shì）鍍膜（mó）機
1、測試（shì）設備的抽真空速度，在測試（shì）過程中檢查漏氣情況（kuàng）與各真空泵的性能；
2、測試設備（bèi）的密（mì）封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗（yàn）其他的性能，比（bǐ）如（rú）傳動、加熱、絕緣等等（děng）；
4、如果有工藝保證（zhèng）的話就繼（jì）續打樣並作測試。
5、所有的測試（shì）應作記（jì）錄，並有記錄（lù）人簽（qiān）字以及有使用部門或工程部門的人確（què）認簽字

怎麽掌控真（zhēn）空鍍膜的均勻性？
由（yóu）於車燈鍍膜機（jī）原理的不同（tóng）分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有（yǒu）統一名稱。所以對於不同（tóng）原理的真（zhēn）空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡（jìn）相同。並且均勻性這個概（gài）念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下麵（miàn）分別說一下：

均勻（yún）性主要體（tǐ）現在3方麵：
1、厚度上（shàng）的（de）均勻性，也可以理解為粗糙度，在（zài）光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為（wéi）100A），真空鍍（dù）膜的均勻（yún）性（xìng）已經相當好，可以輕（qīng）鬆將粗（cū）糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空（kōng）鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的（de）均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是（shì）現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所（suǒ）在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合（hé）物的原子組分（fèn）會由於尺度過小（xiǎo）而很（hěn）容易的產生不均勻特性（xìng），SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程不（bú）科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是（shì）其他的比例，鍍（dù）的膜並非是想要的（de）膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。
3、晶格有序度的均（jun1）勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非（fēi）晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

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