磁控（kòng）濺射是一種 (PVD) 工藝，是製（zhì）造半（bàn）導體、磁盤驅動器、CD 和（hé）光學器件的主要薄膜沉積（jī）方法。以下是磁控濺射中常見的問題。小編列出了可能的（de）原因和相關解決方案供您參（cān）考（kǎo）。

● 問題一：薄膜（mó）灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗淡（dàn）無光澤
● 問題三：薄膜顏色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄膜表麵有水印、指紋和灰粒

 薄膜灰黑或暗（àn）黑 
丨真空度小於0.67Pa；真空度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純度小於99.9%；氬氣應更換為純度為 99.99%。
丨充氣係統漏氣；應檢查充氣係統以消除漏氣。
丨薄膜未充分固化；薄膜的固化時間應適當延長。
丨鍍件排（pái）出的氣體量過大；應（yīng）進行幹燥和密封。

 漆膜表麵無光澤 
丨薄膜固化不良或變質；應延長薄膜固化（huà）時間或更換底漆。
丨磁控濺射時間過長；施工時（shí）間應適（shì）當縮短。
丨磁控（kòng）濺（jiàn）射成（chéng）膜速度太快；磁控濺射電流或電壓（yā）應適當降低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆噴塗不均；底漆（qī）的使（shǐ）用方法有待改進。
丨膜層太薄；應適當提（tí）高磁控濺射速率或延長磁控濺射時間。
丨夾具設計不合理；應改進夾具設計。
丨鍍件（jiàn）幾何形狀過於複雜；鍍件的（de）轉速（sù）應適當提高。

 起（qǐ）皺、開裂 
丨底漆噴得太厚；應控製噴霧的厚度。
丨塗層粘度過（guò）高；應適當降低塗料的粘度。
丨蒸發速度過快；蒸發速度應適當減慢。
丨膜層太厚；濺射時間應適當縮（suō）短（duǎn）。
丨電鍍溫度過高；鍍件的加熱時間應適（shì）當縮短。

 薄膜（mó）表麵有水印、指（zhǐ）紋（wén）和灰粒 
丨鍍件清洗（xǐ）後未充分幹燥；應加強鍍前處理。
丨（shù）在鍍件表麵潑水或唾液；加強文明生產，操作人（rén）員戴口罩。
丨塗底漆後，手接觸（chù）鍍件，表麵留下（xià）指紋；嚴禁用手（shǒu）觸摸鍍（dù）件表麵。
丨有顆粒（lì）物，應過濾或除塵。
丨靜電除塵失敗或噴塗固化環境有顆粒粉塵；應更換除塵器並清潔工作環境。


除以上常用材料外，金屬靶（bǎ）材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦（yīn）、錫、等，均有在鍍膜（mó）中使用（yòng）。多質（zhì）靶材如（rú）鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳（měng）、鎳鉻、矽（guī）鋁、釩錸（lái）、鎢鉬等。

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